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        1. 等離子工藝

          • 真空等離子技術

          • 這些等離子體在密閉的真空中產生(10-3到10-9bar)。與常壓條件下相比,每個單位體積中的微粒數較少,這樣就增加了粒子自由程長度,并相對減少了碰撞過程。因此,等離子體能量削弱的傾向減弱,可在空間內更廣泛地傳播。要制造真空腔體,需要使用功能強大的氣泵。真空等離子技術不具備在線聯動功能。


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            電暈處理技術

            電暈處理是一種使用高電壓的物理工藝,主要用于薄膜處理。電暈預處理的缺點是,表面活化能力相對較低,而且處理之后的表面效果有時不夠均勻。薄膜的反面也會被處理,有時這是工藝要求需要避免的。而且,經由電暈處理得到的表面張力無法維持長時間的穩定性,經過處理的產品往往只能存放有限的時間。


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            常壓射流等離子處理技術

          • 常壓等離子是在大氣壓條件下產生的。這就是說,不需要使用真空腔體。采用電弧放電噴槍技術,首次實現在大氣壓條件下將非常有效——更重要的是—安全無電勢的等離子直接集成到工藝之中。常壓等離子處理機成本低、性能好,因而作為真空等離子和電暈工藝的工藝替代和工藝提升,獲得了廣泛的應用。 常壓等離子技術的一大優勢,在于其在線集成能力。作為一項工藝準則,這種技術能夠順利集成到現有的生產系統中。



          大氣輝光等離子清洗技術

          APR大氣壓射頻輝光等離子清洗機幾乎不產生臭氧或氮氧化物,廣泛應用在顯示器、手機、半導體、汽車、玻璃、薄膜、聚合物、生物領域的金屬和非金屬的表面處理工序。因裝載方便,適用于各種自動化制程和連續制程。我公司的高頻直接式大氣壓等離子體,跟臭氧和UV燈相比具有100倍以上的清潔效果,跟真空等離子體相比有10倍以上的工作效率,去除有機物、表面活化、去除靜電等性能優異,同時還可廣泛用于各種帶線路材料的灰化、蝕刻、微氧化表面的還原等表面處理。


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